전기화학적 방법에 의한 티타늄 임플란트 산화피막의 공정인자와 미세구조 특성에 관한 연구
A study on Microstructure Characteristics of Oxide Film and Processing Factor of Titanium Implant by Electrochemical Method
정해만, 유철, 박수정, 고영무,
소속 상세정보
정해만 ( Jung Hae-Man ) - 조선대학교 치과대학 인체생물학교실
유철 ( Yoo Chull ) - 조선대학교 치과대학 치과재료학교실 및 치과기자재시험평가센터
박수정 ( Park Su-Jung ) - 조선대학교 치과대학 치과재료학교실 및 치과기자재시험평가센터
고영무 ( Ko Yeong-Mu ) - 조선대학교 치과대학 치과재료학교실 및 생체재료나노계면활성화센터
KMID : 0362220060330040303
Abstract
[초록없음:No abstract]
키워드
dental implant;anatase;Electrochemical Method;anodic oxide film
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